[发明专利]可用作石墨烯前体的石墨系碳原材料及其制造方法有效
| 申请号： | 201580000121.9 | 申请日： | 2015-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN105452159A | 公开（公告）日： | 2016-03-30 |
| 发明（设计）人： | 长谷川正治;神谷渚 | 申请（专利权）人： | 石墨烯平台株式会社 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02;C01B31/04 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供用作前体时易于剥离成石墨烯的可用作石墨烯前体的石墨系碳原材料。基于X射线衍射法的由如下(式1)定义的比例Rate(3R)为31％以上的可用作石墨烯前体的石墨系碳原材料。Rate(3R)＝P3/(P3+P4)×100····(式1)此处，P3是菱方晶系石墨层(3R)的基于X射线衍射法的(101)面的峰强度P4是六方晶系石墨层(2H)的基于X射线衍射法的(101)面的峰强度。 | ||
| 搜索关键词： | 用作 石墨 烯前体 原材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种可用作石墨烯前体的石墨系碳原材料，其特征在于，其具有菱方晶系石墨层(3R)和六方晶系石墨层(2H)，所述菱方晶系石墨层(3R)与所述六方晶系石墨层(2H)的基于X射线衍射法的由如下(式1)定义的比例Rate(3R)为31％以上，Rate(3R)＝P3/(P3+P4)×100····(式1)此处，P3是菱方晶系石墨层(3R)的基于X射线衍射法的(101)面的峰强度，P4是六方晶系石墨层(2H)的基于X射线衍射法的(101)面的峰强度。
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