[实用新型]一种下沉式3D打印机的光路结构有效
| 申请号： | 201521142596.5 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN205326294U | 公开（公告）日： | 2016-06-22 |
| 发明（设计）人： | 徐立峥 | 申请（专利权）人： | 博纳云智（天津）科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C67/00 | 分类号： | B29C67/00;G02B17/08;B22F3/105;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 龚燮英 |
| 地址： | 300000 天津市西青区中北镇*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种下沉式3D打印机的光路结构，包括紫外光发生器、DMD芯片和透镜系统，所述光路结构还包括两个反射镜，分别是反射镜Ⅰ和反射镜Ⅱ，所述紫外光发生器设置于DMD芯片的右上方，所述透镜系统位于DMD芯片上方，所述反射镜Ⅰ设于透镜系统的正上方，所述反射镜Ⅰ与水平面的夹角为135°，所述反射镜Ⅱ与反射镜Ⅰ相对称设置，所述反射镜Ⅱ下方设有下沉式成型平台。本光路结构采用了两次反射原理，将DMD芯片的成像技术应用到下沉式3D打印机中，使得成型精度大大提高和成型速度大大加快。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 下沉 打印机 结构 | ||
【主权项】：
一种下沉式3D打印机的光路结构，包括紫外光发生器、DMD芯片和透镜系统，其特征在于，所述光路结构还包括两个反射镜，分别是反射镜Ⅰ和反射镜Ⅱ，所述紫外光发生器设置于DMD芯片的右上方，所述透镜系统位于DMD芯片上方，所述反射镜Ⅰ设于透镜系统的正上方，所述反射镜Ⅰ与水平面的夹角为135°，所述反射镜Ⅱ与反射镜Ⅰ相对称设置，所述反射镜Ⅱ下方设有下沉式成型平台。
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