[实用新型]用于研磨抛光设备上的精确配重机构有效
| 申请号： | 201521132841.4 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN205438162U | 公开（公告）日： | 2016-08-10 |
| 发明（设计）人： | 石会会 | 申请（专利权）人： | 浙江森永光电设备有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人： | 吴泽群 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉兴市秀洲区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于研磨抛光设备上的精确配重机构，包括上定盘和下定盘；所述的上定盘的上表面上安装有至少两条滑道，每条滑道上都匹配有可以在滑道上移动的配重块；所述的滑道绕上定盘的轴心呈中心对称；所述滑道自上定盘转轴轴心向上定盘边缘方向半径逐渐增大。本实用新型与现有技术相比，具有以下优点和效果：增加这个配重装置后，可以通过配重块在滑道上滑动来微调上定盘的重心，由于滑道为渐开线状，因此即使配重块在移动较多的情况下，重心偏移也很小，因此，工作人员更易找到平衡点。此时可保证整个上定盘的盘面与下定盘的盘面同时接触，从而不会损伤被加工件，提高了材料利用率，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 研磨 抛光 设备 精确 配重 机构 | ||
【主权项】：
一种用于研磨抛光设备上的精确配重机构，包括上定盘和下定盘；其特征在于：所述的上定盘的上表面上安装有至少两条滑道，每条滑道上都匹配有可以在滑道上移动的配重块；所述的滑道绕上定盘的轴心呈中心对称；所述滑道自上定盘转轴轴心向上定盘边缘方向半径逐渐增大。
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