[实用新型]一种用于微纳米粉体镀膜的连续生产设备有效
| 申请号： | 201521130158.7 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN205275692U | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 唐晓峰;逯琪;董建廷 | 申请（专利权）人： | 上海朗亿功能材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201620 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于微纳米粉体镀膜的连续生产设备，该设备包括储料仓(1)、连续下料装置(2)、传输系统(3)、磁控溅射装置(4)、真空腔体(5)、收料仓(6)、抽气系统(7)和进气系统(8)。通过该设备对微纳米粉体镀膜能够实现工艺多样性变化及产品镀层稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 纳米 镀膜 连续生产 设备 | ||
【主权项】：
一种用于微纳米粉体镀膜的连续生产设备，包括储料仓(1)、连续下料装置(2)、磁控溅射装置(4)、真空腔体(5)、收料仓(6)、抽气系统(7)、进气系统(8)，其特征在于：还包括带有皮带输送装置和皮带振动装置的传输系统(3)，所述传输系统(3)安装于真空腔体(5)内部的磁控溅射装置(4)下方。
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