[实用新型]一种微光显微镜装置有效
申请号: | 201521089922.0 | 申请日: | 2015-12-24 |
公开(公告)号: | CN205449774U | 公开(公告)日: | 2016-08-10 |
发明(设计)人: | 文智慧;杨梅;殷原梓;高保林;李日鑫 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴区大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种微光显微镜装置,其特征在于,包括:微光显微镜、光路装置、光探测装置及探针,其中,所述光路装置包括呈预设夹角的第一光反射面以及第二光反射面,待测样品设置于所述第一光反射面的上方,所述光探测装置设置于所述第二光反射面的上方,所述待测样品的激发光从待测样品的背面发出,并经由所述第一光反射面以及第二光反射面反射后,入射至所述光探测装置内。本实用新型在待测样品不需要做任何调整的情况下,同时兼备正面EMMI分析功能和背面EMMI分析功能,操作方便,适用性广,有效降低了芯片失效分析成本并提高分析效率。而且,本实用新型都是从正面下探针,进一步提高了操作的便利性和工作效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 微光 显微镜 装置 | ||
【主权项】:
一种微光显微镜装置,其特征在于,包括:微光显微镜、光路装置、光探测装置及探针,其中,所述光路装置包括呈预设夹角的第一光反射面以及第二光反射面,所述第一光反射面设置于待测样品的下方,所述第二光反射面设置于所述光探测装置的下方,所述待测样品的激发光从待测样品的背面发出,并经由所述第一光反射面以及第二光反射面反射后入射至所述光探测装置内。
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