[实用新型]电解槽及电解槽系统有效
| 申请号： | 201520995619.0 | 申请日： | 2015-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN205741233U | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 刘兴华;J·沃德;D·A·威劳克;F·E·菲尔普斯;J·M·迪尼斯;J·克尔克霍夫;R·A·迪米利亚 | 申请（专利权）人： | 美铝公司 |
| 主分类号： | C25C7/00 | 分类号： | C25C7/00;C25C3/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王海宁 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请涉及电解槽及电解槽系统。提供了一种电解槽系统，该电解槽系统包括电解槽，该电解槽被配置为保持熔融电解液槽浴，该槽浴包含至少一种槽浴成分，该电解槽包括：底部，和基本上由所述至少一种槽浴成分构成的侧壁；和进料，所述进料包括熔融电解液槽浴中的所述至少一种槽浴成分，使得所述至少一种槽浴成分在饱和度的30％之内，其中通过所述进料，该侧壁在熔融电解液槽浴中稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 电解槽 系统 | ||
【主权项】：
一种电解槽系统，其特征在于该电解槽系统包括：电解槽，该电解槽配置为保持熔融电解液槽浴，该槽浴包括至少一种槽浴成分，该电解槽包括：底部，和侧壁，基本上由该至少一种槽浴成分组成，其中该侧壁的厚度为3mm到不超过500mm；和进料，包括熔融电解液槽浴中的所述至少一种槽浴成分，使得该至少一种槽浴成分在饱和度的90％内，其中，通过该进料，该侧壁在熔融电解液槽浴中稳定。
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