[实用新型]矩阵式压痕法应力分布测试装置有效
申请号: | 201520651029.6 | 申请日: | 2015-08-26 |
公开(公告)号: | CN204855050U | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 薛欢;彭文杰;葛锐;杜丽影;刘冬;余立;严龙;朱琳娜 | 申请(专利权)人: | 武汉钢铁(集团)公司 |
主分类号: | G01L1/00 | 分类号: | G01L1/00;G01N3/00 |
代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人: | 胡镇西;彭成 |
地址: | 430080 湖北省武汉市武昌*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开一种矩阵式压痕法应力分布测试装置,包括机架,机架上设有按a×b阵列布置的多个子压痕制造装置,其中a、b为大于1的正整数;子压痕制造装置包括竖直安装在机架上的外壳,外壳内设有与其滑动连接的上打击体和下打击体,上打击体顶面设有穿出外壳顶部的手柄,下打击体的一端设有钢球并穿出外壳底部。多个间距均匀一致的子压痕制造装置,其各打击点与列阵式应变片的各定位孔保持一致,从根本上保证了定位的精准性;上下分离式打击体的设计能够使压痕制造过程更加稳定;在进行多点应力分布测试时,本实用新型只需进行一次打磨、黏贴、定位工序,实验效率大幅提高。 | ||
搜索关键词: | 矩阵 压痕 应力 分布 测试 装置 | ||
【主权项】:
一种矩阵式压痕法应力分布测试装置,包括机架(1),其特征在于:所述机架(1)上设有按a×b阵列布置的多个子压痕制造装置(2),其中a、b为大于1的正整数;所述子压痕制造装置(2)包括竖直安装在机架(1)上的外壳(3),所述外壳(3)内设有与所述外壳(3)内壁滑动连接的上打击体(4)和下打击体(5),所述上打击体(4)顶面设有穿出外壳(3)顶部的手柄(6),所述下打击体(5)的一端穿出所述外壳(3)底部并设有钢球(7)。
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