[实用新型]一种新型双头立式机床有效
| 申请号： | 201520627892.8 | 申请日： | 2015-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN204954382U | 公开（公告）日： | 2016-01-13 |
| 发明（设计）人： | 雷万春;陈杰;张钦炎;凌导;谭巧云 | 申请（专利权）人： | 深圳大宇精雕科技有限公司 |
| 主分类号： | B23Q1/26 | 分类号： | B23Q1/26;B23Q5/40 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 李悦;张鹏 |
| 地址： | 518111 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种新型双头立式机床，包括机架、鞍座、第一驱动机构、工作台、第二驱动机构和两个主轴机构。该机架包括底座和立柱，该立柱的下端固设于底座上；鞍座可活动地安装于底座上方；工作台可活动地安装于鞍座上方；该两个主轴机构均安装于立柱上端并沿底座的宽度方向间隔设置，主轴机构包括主轴箱、主轴和第三驱动机构。本实用新型的鞍座可以在第一驱动机构的带动下沿底座的长度方向运动，工作台可以在第二驱动机构的带动下沿底座的宽度方向运动，这样工作台的移动较为方便，本实用新型设置有两个间隔分布的主轴机构，并且主轴机构的主轴可在第三驱动机构的带动下沿立柱的高度方向运动，这样，加工效率较高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 立式 机床 | ||
【主权项】：
一种新型双头立式机床，其特征在于，包括：机架，该机架包括底座和立柱，该立柱的下端固设于底座上；鞍座，可活动地安装于底座上方；第一驱动机构，用于带动鞍座沿底座的长度方向运动；工作台，可活动地安装于鞍座上方；第二驱动机构，用于带动工作台相对于鞍座沿底座的宽度方向运动；两个主轴机构，该两个主轴机构均安装于立柱上端并沿底座的宽度方向间隔设置，主轴机构包括主轴箱、主轴和第三驱动机构，主轴箱可上下活动地安装于立柱上，主轴安装于主轴箱中，第三驱动机构用于带动主轴箱沿立柱的高度方向运动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳大宇精雕科技有限公司，未经深圳大宇精雕科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201520627892.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
