[实用新型]一种低温杜瓦腔室有效

专利信息
申请号: 201520581346.5 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN204943012U 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 郭方准 申请(专利权)人: 大连齐维科技发展有限公司
主分类号: F17C1/00 分类号: F17C1/00;F17C13/04;F17C13/00
代理公司: 大连博晟专利代理事务所(特殊普通合伙) 21236 代理人: 于忠晶
地址: 116000 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及超高真空环境下的低温恒温领域,特别涉及一种低温杜瓦腔室。本实用新型在内部探入实验管的外部具有液氮、液氦双重保温层,探入实验管与液氦筒围成空间形成液氦层;由密封法兰、上法兰、液氦细管、液氦筒端盖、液氦筒下盖、探入真空屏蔽筒、探入液氦筒、探入液氦屏蔽端盖、探入真空定位端盖形成另一个液氦层;通过液氮屏蔽内筒、液氮屏蔽外筒、液氮屏蔽上盖、液氮屏蔽下盖之间围成液氮保温层,双重保温层的结构可保证设备为内部样品提供一个稳定的超低温环境,同时延长了液氦的滞留时间,减少了液氦的使用量。本实用新型结构紧凑合理,真空漏率小,密封性好;抗腐蚀性好;本体采用不锈钢,耐高温烘烤;具有辐射屏蔽系统,漏热少。
搜索关键词: 一种 低温 杜瓦腔室
【主权项】:
一种低温杜瓦腔室,其特征在于:真空机构包括腔室外筒(24)的上端连接上法兰(1),腔室外筒(24)的下端连接腔室端盖(27),腔室端盖(27)的下部连接探入外筒(31),探入外筒(31)的下端连接真空密封顶(38),探入实验管(34)通过导向环(17)插装于真空机构内,探入实验管(34)的外部通过探入液氦筒(33)套装有液氦机构,液氦机构的外部通过探入真空屏蔽筒(32)套装有液氮机构,液氮机构的外部通过探入真空屏蔽筒(32)套装于真空机构内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连齐维科技发展有限公司,未经大连齐维科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520581346.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top