[实用新型]一种低温杜瓦腔室有效
申请号: | 201520581346.5 | 申请日: | 2015-08-05 |
公开(公告)号: | CN204943012U | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 郭方准 | 申请(专利权)人: | 大连齐维科技发展有限公司 |
主分类号: | F17C1/00 | 分类号: | F17C1/00;F17C13/04;F17C13/00 |
代理公司: | 大连博晟专利代理事务所(特殊普通合伙) 21236 | 代理人: | 于忠晶 |
地址: | 116000 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型涉及超高真空环境下的低温恒温领域,特别涉及一种低温杜瓦腔室。本实用新型在内部探入实验管的外部具有液氮、液氦双重保温层,探入实验管与液氦筒围成空间形成液氦层;由密封法兰、上法兰、液氦细管、液氦筒端盖、液氦筒下盖、探入真空屏蔽筒、探入液氦筒、探入液氦屏蔽端盖、探入真空定位端盖形成另一个液氦层;通过液氮屏蔽内筒、液氮屏蔽外筒、液氮屏蔽上盖、液氮屏蔽下盖之间围成液氮保温层,双重保温层的结构可保证设备为内部样品提供一个稳定的超低温环境,同时延长了液氦的滞留时间,减少了液氦的使用量。本实用新型结构紧凑合理,真空漏率小,密封性好;抗腐蚀性好;本体采用不锈钢,耐高温烘烤;具有辐射屏蔽系统,漏热少。 | ||
搜索关键词: | 一种 低温 杜瓦腔室 | ||
【主权项】:
一种低温杜瓦腔室,其特征在于:真空机构包括腔室外筒(24)的上端连接上法兰(1),腔室外筒(24)的下端连接腔室端盖(27),腔室端盖(27)的下部连接探入外筒(31),探入外筒(31)的下端连接真空密封顶(38),探入实验管(34)通过导向环(17)插装于真空机构内,探入实验管(34)的外部通过探入液氦筒(33)套装有液氦机构,液氦机构的外部通过探入真空屏蔽筒(32)套装有液氮机构,液氮机构的外部通过探入真空屏蔽筒(32)套装于真空机构内。
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