[实用新型]常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统有效
| 申请号： | 201520532476.X | 申请日： | 2015-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN205011827U | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 庄志杰;周钧;刘战合 | 申请（专利权）人： | 赛柏利安工业技术（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/56 |
| 代理公司： | 江苏银创律师事务所 32242 | 代理人： | 王纪营 |
| 地址： | 215024 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，所述常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统包括薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统；所述薄膜真空沉积系统包括两个分隔开的相互独立的低真空度腔体和高真空度腔体，所述低真空度腔体与高真空度腔体之间设置有隔板；所述薄膜真空沉积系统与所述自控卷绕系统之间设置有卷绕机隔板；所述自控卷绕系统包括卷绕机底座和自动控制机构，所述卷绕机底座上设置有多层分开的放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构和收料机构；本实用新型结构简单，使用方便，工作稳定性好,能够在常温下制备，生产效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 常温 多层 ito 柔性 基材 立式 连续 沉积 设备 系统 | ||
【主权项】：
一种常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，其特征在于:所述常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统包括薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统；所述薄膜真空沉积系统包括两个分隔开的相互独立的低真空度腔体和高真空度腔体，所述低真空度腔体与高真空度腔体之间设置有隔板；所述薄膜真空沉积系统与所述自控卷绕系统之间设置有卷绕机隔板；所述自控卷绕系统包括卷绕机底座和自动控制机构，所述卷绕机底座上设置有多层分开的放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构和收料机构；所述放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构、收料机构均与自动控制机构相连接；所述放料机构为放料辊和放料及分开系统，所述收料机构为收料复合机构和收料辊；所述低真空度腔体和高真空度腔体内均设置有各自独立的相互分开的真空抽气系统；所述放料及分开系统、立式单鼓机构、同步卷绕机构、收料复合机构上均设置有各自独立的同步驱动系统；所述低真空度腔体设置有可沿着水平轨道开合的第一移动门,所述高真空度腔体装设有第二移动门,所述低真空腔体内设置有可视实时监控系统。
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