[实用新型]磁控溅射镀膜装置有效
| 申请号： | 201520423159.4 | 申请日： | 2015-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN204779786U | 公开（公告）日： | 2015-11-18 |
| 发明（设计）人： | 王云靖 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 乐卫国 |
| 地址： | 201506 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜装置，它包括磁铁、连动磁铁运动的丝杆和带动丝杆运动的电机，所述磁铁为分段式结构,包括固定段和可调节段，其中，可调节段位于固定段的两端，可调节段分别与丝杆连接，所述丝杆分别与电机连接；上述结构组成一个磁控溅射镀膜单元，所述磁控溅射镀膜装置由n个磁控溅射镀膜单元组成。采用控制分段式的磁铁，使得每个小磁铁都可以独立控制，可以按照需求作灵活的调整。所以可以使得产品的膜厚均一性得到大大提升，从而良率也得到提升膜厚均一性越好，代表磁场强度也比较均匀，使得材料的消耗也比较均匀，不会因为某一部分的磁场过强，而使得整体的材料报废，也大大的节约了成本。本实用新型适用于磁控溅射镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射镀膜装置，它包括磁铁（3）、连动磁铁（3）运动的丝杆（12）和带动丝杆（12）运动的电机（13），其特征在于：所述磁铁（3）为分段式结构,包括固定段和可调节段，其中，可调节段位于固定段的两端，可调节段分别与丝杆（12）连接，所述丝杆分别与电机（13）连接；上述结构组成一个磁控溅射镀膜单元，所述磁控溅射镀膜装置由n个磁控溅射镀膜单元组成。
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