[实用新型]一种旋转式抛光机有效
| 申请号： | 201520371202.7 | 申请日： | 2015-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN204639877U | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 翁强;刘清建;尤涛;王太勇 | 申请（专利权）人： | 福建省天大精诺信息有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B47/04 |
| 代理公司： | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人： | 林祥翔;吕元辉 |
| 地址： | 351111 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种旋转式抛光机，包括：机床基座、回转工作台和进行抛光加工的抛光模组；所述回转工作台包括旋转工作台、升降平台和滑动平台，所述机床基座上水平设置有第一滑轨，滑动平台上设置有与第一滑轨正交的第二滑轨，滑动平台可滑动地设置于第一滑轨上，升降平台可滑动地设置于第二滑轨上，升降平台设有Z轴升降装置，旋转工作台包括竖直设置于Z轴升降装置上的转轴、驱动转轴转动的驱动电机以及设置于转轴顶端的放置台面。本实用新型旋转式抛光机抛光效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 抛光机 | ||
【主权项】：
一种旋转式抛光机，其特征在于，包括：机床基座、回转工作台和进行抛光加工的抛光模组；所述回转工作台包括旋转工作台、升降平台和滑动平台，所述机床基座上水平设置有第一滑轨，滑动平台上设置有与第一滑轨正交的第二滑轨，滑动平台可滑动地设置于第一滑轨上，升降平台可滑动地设置于第二滑轨上，所述升降平台设有Z轴升降装置，所述旋转工作台包括竖直设置于Z轴升降装置上的转轴、驱动转轴转动的驱动电机以及设置于转轴顶端的放置台面。
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