[实用新型]用于基板抛光的装置有效
| 申请号： | 201520279167.6 | 申请日： | 2015-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN205021392U | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | 立钟·孙;秉-圣·利奥·郭 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种用于基板抛光的装置，所述装置包括用于调节抛光垫表面的调节器系统和具有真空口的真空系统。所述调节器系统包括调节器机头，所述机头构造用于容纳研磨调节器的部件。所述真空系统被配置成按照远离抛光垫表面的方向，通过真空口施加吸力到所述抛光垫表面来去除所述表面上的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种用于基板抛光的装置，其特征在于所述装置包括：调节器系统，所述调节器系统用于调节抛光垫表面，所述调节器系统包括调节器机头，所述调节器机头构造成容纳研磨调节器部件；和真空系统，所述真空系统具有真空口，所述真空系统被配置成按照远离所述抛光垫的所述表面的方向，通过所述真空口施加吸力到所述表面来去除所述表面上的材料。
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