[实用新型]用于将液体连续施涂到基底的装置有效

专利信息
申请号: 201520171708.3 申请日: 2015-03-25
公开(公告)号: CN204953233U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: H·鲍瑟 申请(专利权)人: 迪芬巴赫机械工程有限公司
主分类号: B05C1/08 分类号: B05C1/08;B05C11/10
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 江漪
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 实用新型涉及一种用于将液体连续施涂到基底的装置,其特别地用于压力机中制造材料的过程,其中,液体藉由施涂装置转移到所述基底,施涂装置包括施涂辊,该施涂辊绕施涂辊的轴旋转。本实用新型包括合适地使用液体,并可以根据最大所需宽度将液体施涂到基底上。本实用新型特征在于,配量装置布置成用于将液体施涂到施涂装置的旋转的施涂辊,其中,所述配量装置适合滴到、喷射到或者灌注到施涂辊上。对于其它改善,传感器可以布置在所述基底上以检测在施涂辊回流中和/或施涂辊与基底接触后的液体膜,并且传感器可以与开环或闭环控制装置有效连接,以控制配量装置或液体的施涂量。
搜索关键词: 用于 液体 连续 施涂到 基底 装置
【主权项】:
一种用于将液体连续施涂到基底的装置,所述液体(2)藉由施涂装置转移到所述基底,所述施涂装置包括施涂辊(3),所述施涂辊(3)绕所述施涂辊的轴(10)旋转,其特征在于,配量装置布置成用于将液体(2)施涂到所述施涂装置的旋转的所述施涂辊(3),其中,所述配量装置适于滴到、喷射到或者灌注到所述施涂辊(3)上。
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