[实用新型]空间抗辐照玻璃盖片的一次连续式制备系统有效
| 申请号： | 201520171656.X | 申请日： | 2015-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN204454856U | 公开（公告）日： | 2015-07-08 |
| 发明（设计）人： | 卢勇 | 申请（专利权）人： | 秦皇岛星箭特种玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03B17/06 | 分类号： | C03B17/06 |
| 代理公司： | 石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙) 13115 | 代理人： | 王琪 |
| 地址： | 066004 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 空间抗辐照玻璃盖片的一次连续式制备系统，属于航天装备用的玻璃盖片制备技术领域，本系统中包括电熔窑、由竖直上升道与水平主料道组成的澄清均化用通道及退火窑，电熔窑借助流液洞与竖直上升道连通，关键在于：系统结构中增设成型机，成型机的入口与水平主料道的出料口连接，成型机的出口与退火窑连接。所述的退火窑结构中包括玻璃带入口、玻璃带出口及在窑内设置的玻璃带传送辊，在玻璃带传送辊上、下方设置有电热丝，玻璃带入口与成型机的出口连接。本系统能够直接一次拉制0.02-0.12mm的超薄玻璃，根据使用尺寸进行切割，能一次生产大尺寸的空间抗辐照玻璃盖片。减少了制造工序，本系统的利用电熔窑一次连续生产空间抗辐照玻璃盖片的方法成品率高，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 空间 辐照 玻璃 一次 连续 制备 系统 | ||
【主权项】：
空间抗辐照玻璃盖片的一次连续式制备系统，本系统中包括电熔窑(1)、由竖直上升道(5)与水平主料道(7)组成的澄清均化用通道及退火窑(12)，电熔窑(1)借助流液洞(4)与竖直上升道(5)连通，其特征在于：系统结构中增设成型机(10)，成型机(10)的入口与水平主料道(7)的出料口连接，成型机(10)的出口与退火窑(12)连接。
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