[实用新型]薄片类介质输送机构及薄片类介质处理装置有效

专利信息
申请号: 201520136752.0 申请日: 2015-03-11
公开(公告)号: CN204453932U 公开(公告)日: 2015-07-08
发明(设计)人: 贾超;张政民;张诗水;杨民 申请(专利权)人: 山东新北洋信息技术股份有限公司
主分类号: B65H5/06 分类号: B65H5/06
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 毕强
地址: 264203 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型提供了一种薄片类介质输送机构和一种薄片类介质处理装置,涉及电子设备领域。该输送机构包括通道板组件和输送辊组件,通道板组件包括相对设置的固定通道板和可动通道板,两者之间形成输送通道;输送辊组件设置在输送通道上,输送辊组件包括相对设置的第一辊和第二辊,第二辊沿输送通道的高度方向可远离或者靠近第一辊,第二辊始终具有靠近第一辊的运动趋势;第二辊远离第一辊设定距离后驱使可动通道板随第二辊同步移动,令可动通道板远离固定通道板,可动通道板始终具有靠近固定通道板的运动趋势。该处理装置包括所述薄片类介质输送机构。本实用新型在输送介质时,能够针对不同厚度的介质实时调整施加的压力,对介质的适应性较佳。
搜索关键词: 薄片 介质 输送 机构 处理 装置
【主权项】:
一种薄片类介质输送机构,包括通道板组件和输送辊组件,其中,所述通道板组件包括相对设置的固定通道板和可动通道板,两者之间形成供介质通过的输送通道;所述输送辊组件设置在所述输送通道上,所述输送辊组件包括相对设置的第一辊和第二辊,所述第二辊沿所述输送通道的高度方向可远离或者靠近所述第一辊,且所述第二辊始终具有靠近所述第一辊的运动趋势,其特征在于:所述第二辊远离所述第一辊设定距离后驱使所述可动通道板随所述第二辊同步移动,令所述可动通道板远离所述固定通道板,且所述可动通道板始终具有靠近所述固定通道板的运动趋势。
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