[实用新型]一种晶体吸盘装置有效
| 申请号： | 201520087469.3 | 申请日： | 2015-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN204591973U | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 章仁上 | 申请（专利权）人： | 德清晶生光电科技有限公司 |
| 主分类号： | F16B47/00 | 分类号： | F16B47/00 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 董芙蓉 |
| 地址： | 313000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶体吸盘装置，包括吸盘体、吸孔、导气槽及环形吸槽，其中，上述吸盘体为圆柱体结构，吸孔设置在吸盘体上，并贯穿吸盘体；上述环形槽包括至少二个，各环形槽间隔设置在吸盘体的顶面，并向下凹陷，形成晶体吸附面，以便吸附晶体；上述导气槽设置在吸盘体的顶面，导气槽连接吸孔及环形吸槽，吸孔连接外设的真空发生器及气泵，以便将吸附面上的空气走，形成负压。本实用新型结构简单，使用方便快捷，吸附稳定牢固。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶体 吸盘 装置 | ||
【主权项】：
一种晶体吸盘装置，其特征在于：包括吸盘体（1）、吸孔（2）、导气槽（3）及环形吸槽（4），其中，上述吸盘体（1）为圆柱体结构，吸孔（2）设置在吸盘体（1）上，并贯穿吸盘体（1）；上述环形槽（4）包括至少二个，各环形槽（4）间隔设置在吸盘体（1）的顶面，并向下凹陷，形成晶体吸附面，以便吸附晶体；上述导气槽（3）设置在吸盘体（1）的顶面，导气槽（3）连接吸孔（2）及环形吸槽（4），吸孔（2）连接外设的真空发生器及气泵，以便将吸附面上的空气走，形成负压。
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