[实用新型]一种等离子表面改性用的真空室

摘要

本实用新型公开了一种等离子表面改性用的真空室，包括有真空室舱体，所述的真空室舱体上设置有进气接口和抽真空接口，所述的真空室舱体包括有底舱和底舱密封盖，该底舱内设置有横截面为正八边形且上端开口的真空腔，所述的底舱密封盖密封盖设于底舱的真空腔上端，所述的底舱的侧壁呈正八边形分布，两个第一侧壁上分别对应设置有刻度尺，其中一只第一侧壁对应于刻度尺的上方水平设置有燕尾槽，所述的燕尾槽上水平滑移设置有滑移座，该滑移座上固定设置有与另一第一侧壁相垂直的激光笔。本实用新型的优点是结构设计合理，等离子源位置分布精准，且加热均匀。

主权项

一种等离子表面改性用的真空室，包括有真空室舱体，所述的真空室舱体上设置有进气接口和抽真空接口，其特征在于：所述的真空室舱体包括有底舱和底舱密封盖，该底舱内设置有横截面为正八边形且上端开口的真空腔，所述的底舱密封盖密封盖设于底舱的真空腔上端，所述的底舱的侧壁呈正八边形分布，该底舱的侧壁包括有相互对称的一对第一侧壁，以及与第一侧壁相邻并相互平行的一对第二侧壁和一对第三侧壁，余下的一对侧壁为第四侧壁，所述的两个第一侧壁上分别对应设置有刻度尺，其中一只第一侧壁对应于刻度尺的上方水平设置有燕尾槽，所述的燕尾槽上水平滑移设置有滑移座，该滑移座上固定设置有与另一第一侧壁相垂直的激光笔。