[发明专利]甘草次酸修饰的恩替卡韦脂质体制剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201511009226.9 | 申请日： | 2015-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN105412015B | 公开（公告）日： | 2017-07-18 |
| 发明（设计）人： | 王善春;张喜全;顾红梅;韩苗苗;王祥建;张来芳;于飞 | 申请（专利权）人： | 正大天晴药业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | A61K9/127 | 分类号： | A61K9/127;A61K31/522;A61K47/34;A61P31/20;A61P1/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 222062 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于药物制剂领域，具体涉及一种甘草次酸修饰的恩替卡韦脂质体制剂及其制备方法。本发明的恩替卡韦脂质体制剂通过甘草次酸和聚乙二醇对磷脂进行修饰而制得。这种恩替卡韦脂质体肝靶向性好，毒性小，包封率高，粒径均匀，且批次间差异小。 | ||
| 搜索关键词： | 甘草 修饰 恩替卡韦 脂质体 制剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种甘草次酸修饰的恩替卡韦脂质体，其特征是，包括恩替卡韦、精氨酸、GA‑PEG‑DPPC、磷脂、胆固醇，所述PEG为PEG2000和PEG800的混合物，所述磷脂为二棕榈酰磷脂酰胆碱。
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