[发明专利]一种基于透射可见光的曝光控制系统及方法

摘要

本发明提供一种基于透射可见光的曝光控制系统及方法，包括光信号采集模块；电流转电压模块；在点片模式下计算累计曝光剂量，当累计曝光剂量达到阈值时停止曝光，并在脉冲透视模式下采样曝光信号幅值的微处理器模块；将处理后的幅值信息转换为模拟信号的数模转换模块；将自动亮度控制信号与高压发生器电平匹配的电平匹配模块。点片模式下，给定曝光剂量率，通过检测累计曝光剂量或图像灰度调节曝光时间；脉冲透视模式下，给定曝光时间，通过检测曝光信号的幅值实时反馈自动亮度控制信号，进而调节曝光剂量率。本发明无前置伪影，节省剂量、空间分辨率高；且通用于点片模式和脉冲透视模式；实时性好；同时，减少了外置部件和复杂的图像算法。

主权项

一种基于透射可见光的曝光控制系统，其特征在于，所述基于透射可见光的曝光控制系统至少包括：光信号采集模块，用于采集曝光后平板探测器中非晶硅TFT阵列未吸收的可见光信号，并转化为电荷；电流转电压模块，连接于所述光信号采集模块的输出端，用于将所述光信号采集模块输出的电荷转化为电压信号，得到曝光信号；微处理器模块，连接于所述电流转电压模块的输出端，在点片模式下根据所述曝光信号计算累计曝光剂量，得到自动曝光控制信号，当所述累计曝光剂量达到阈值时自动曝光控制信号控制高压发生器结束曝光；在脉冲透视模式下对所述曝光信号采样并输出所述曝光信号的幅值；数模转换模块，连接于所述微处理器模块的输出端，用于将所述曝光信号的幅值转换为模拟信号，作为自动亮度控制信号；电平匹配模块，连接于所述数模转换模块的输出端，用于将所述自动亮度控制信号的电平与所述高压发生器匹配，进而实现对曝光剂量率的调节。