[发明专利]一种还原氧化石墨烯复合薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201510939156.0 | 申请日： | 2015-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN105542333A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 关伟;杜鹃;罗艳;钟毅;李增宏 | 申请（专利权）人： | 东华大学;上海朴盛新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08L25/08 | 分类号： | C08L25/08;C08L25/02;C08L65/00;C08K9/02;C08K3/04;C08J5/18;C01B31/04;B32B37/00;B32B37/02;B32B38/18 |
| 代理公司： | 上海天翔知识产权代理有限公司 31224 | 代理人： | 高迷想 |
| 地址： | 201620 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种还原氧化石墨烯复合薄膜及其制备方法，该方法包括(1)改进Hummer法制备低氧化石墨水溶液；(2)低氧化氧化石墨烯/两亲性聚合物分散液的制备；(3)分级离心；(4)原位聚合；(5)抽滤成膜；(6)制备复合膜；(7)还原；在70-80℃条件下，将复合膜浸泡在HI水溶液中10～15s，取出，然后清洗和干燥；即得到还原氧化石墨烯复合薄膜。本发明制备的还原氧化石墨烯复合薄膜5×5cm无任何裂缝和褶皱，0-180°任意弯曲，在λ＝550nm处透光率85％-88％，电导率达到91.6-98.2S/cm，表面电阻为145.82-175.54Ωsq-1；拉曼光谱显示，HI还原前后PEDOT基团和结构完全一致。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 还原 氧化 石墨 复合 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低氧化氧化石墨烯/聚合物分散液的制备方法，其特征是包括以下步骤：(1)改进的Hummer法制备低氧化石墨水溶液；按改进的Hummer法制备获得低氧化石墨水溶液，其中高温反应的温度控制在65～70℃，反应时间12～15min；其中减少氧化剂硫酸和硝酸的量至传统Hummer法的30‑50wt％；所制得的低氧化石墨中，氧化碳含量为碳总量15～20％，羧基碳为碳总含量5～10％；(2)低氧化氧化石墨烯/两亲性聚合物分散液的制备；滴加两亲性聚合物至所述低氧化石墨水溶液中，充分混合；超声剥离处理后，得到均质稳定的低氧化氧化石墨烯/两亲性聚合物分散液。
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