[发明专利]一种流体磁处理器有效
| 申请号： | 201510933793.7 | 申请日： | 2015-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN106887298B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 张慧欣;张诗渊 | 申请（专利权）人： | 上海浩灵磁电器件有限公司 |
| 主分类号： | H01F13/00 | 分类号： | H01F13/00;C02F1/48;C10G32/02 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 201800 上海市嘉定区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种流体磁处理器，由本体(2)及连接在本体(2)上的入口接头(1)和出口接头(3)组成，本体(2)由盖板(21)、壳体(23)及磁钢组合(27)构成，磁钢组合(27)为数个永磁源以磁性方向N、S首尾相连围成永磁串，相邻永磁源之间均存在气隙，永磁源与磁性方向垂直的剖面面积不相等，永磁源中间面积最大，靠近气隙处面积逐渐变小。与现有技术相比，本发明可以实现工作气隙中的高磁场强度和高磁场梯度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流体 处理器 | ||
【主权项】：
1.一种流体磁处理器，由本体(2)及连接在本体(2)上的入口接头(1)和出口接头(3)组成，所述的本体(2)由盖板(21)、壳体(23)及磁钢组合(27)构成，其特征在于，所述的磁钢组合(27)为数个永磁源以磁性方向N、S首尾相连围成永磁串，相邻永磁源之间均存在气隙，永磁源与磁性方向垂直的剖面面积不相等，永磁源中间面积最大，靠近气隙处面积逐渐变小；所述的磁钢组合(27)中心为空腔结构。
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