[发明专利]多序列激光阴影照相中的补偿滤光装置有效

专利信息
申请号: 201510801314.6 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN105425528B 公开(公告)日: 2018-10-02
发明(设计)人: 谢爱民;黄洁;宋强;文雪忠;柯发伟;李晶;姜林;柳森 申请(专利权)人: 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所
主分类号: G03B39/00 分类号: G03B39/00;G03B11/00;G02B1/00;G02B1/14;G02B1/11
代理公司: 国防专利服务中心 11043 代理人: 文伟能
地址: 621000 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于超高速瞬态成像领域,涉及一种多序列激光阴影照相中的补偿滤光装置,所述装置包括依次顺接的密度渐变滤光片、成像物镜和滤光镜;密度渐变滤光片通光口径为25mm,材料为BK7,在532nm时光密度变化范围0.08~2.0;成像物镜的焦距为118mm,通光口径为25mm;滤光镜通光口径为25.4mm、中心波长为532nm、带宽为10nm、厚度为1.5mm、正入射时透射率为75%,滤光镜垂直于光轴方向10°~30°倾斜放置。本发明滤光镜放置于成像物镜之后,消除光路中产生的杂光,滤光镜垂直于光轴方向10°~30°倾斜放置,可以消除光路中的干涉条纹而提高成像均匀性。
搜索关键词: 序列 激光 阴影 照相 中的 补偿 滤光 装置
【主权项】:
1.一种多序列激光阴影照相中的补偿滤光装置,其特征在于,所述装置包括依次顺接的密度渐变滤光片(1)、成像物镜(2)和滤光镜(3);密度渐变滤光片(1)通光口径为25mm,材料为BK7,在532nm时光密度变化范围0.08~2.0,密度渐变滤光片(1)的一面镀Ni‑Cr‑Fe加SiO保护膜层,另一面镀532nm增透膜;成像物镜(2)由成像物镜前组(4)和成像物镜后组(5)组成,成像物镜前组(4)材料为BK7,折射率为1.580,阿贝常数为64.169998,中心厚度为15.06mm,曲率分别为807.2mm、25.76mm;成像物镜后组(5)材料为SF1,折射率为1.71736,阿贝常数为29.511,中心厚度为14.32mm,曲率分别为‑25.76、48.41mm;成像物镜(2)的焦距为118mm,通光口径为25mm;滤光镜(3)通光口径为25.4mm、中心波长为532nm、带宽为10nm、厚度为1.5mm、正入射时透射率为75%,滤光镜(3)垂直于光轴方向10°~30°倾斜放置。
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