[发明专利]清洁刮板和清洁装置在审
申请号: | 201510728721.9 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN105573087A | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | 伊藤真吾;辛岛贤司;河田将也;田上智博;渡部政弘 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G21/00 | 分类号: | G03G21/00 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及清洁刮板和清洁装置。提供具有包含聚氨酯橡胶的弹性体部分和支承弹性体部分的支承构件的清洁刮板。弹性体的自由端部分具有其中在端面侧自面向被清洁构件的表面的主面起沿深度方向杨氏模量逐渐减少的第一区域,和其中在相对于第一区域更接近支承构件的一侧自主面起沿深度方向杨氏模量无变化的第二区域。 | ||
搜索关键词: | 清洁 装置 | ||
【主权项】:
一种清洁刮板,其特征在于,包括:包含聚氨酯橡胶的弹性体部分;和支承所述弹性体部分的支承构件,并且所述清洁刮板通过使所述弹性体部分与被清洁构件的表面接触来清洁所述被清洁构件的表面,其中所述弹性体的自由端部分包括其中在端面侧,自面向所述被清洁构件的表面的主面起沿深度方向杨氏模量逐渐减少的第一区域,和其中在相对于所述第一区域更接近所述支承构件的一侧自所述主面起沿深度方向杨氏模量无变化的第二区域,和在所述第一区域中,当所述主面以及距所述主面20μm深的位置和50μm深的位置的杨氏模量分别定义为Y0、Y20和Y50,所述主面与距所述主面20μm深的位置之间的杨氏模量的平均变化率ΔY0‑20由下述式(5)表示,距所述主面20μm深的位置与距所述主面50μm深的位置之间的杨氏模量的平均变化率ΔY20‑50由下述式(6)表示,和与所述主面在同一平面上的所述第二区域中的表面的杨氏模量定义为P0时,满足下述式(1)、(2)、(3)和(4)的关系:10mgf/μm2≤Y0≤400mgf/μm2 (1),Y50/Y0≤0.5 (2),ΔY20‑50≤ΔY0‑20 (3),P0<Y0 (4),ΔY0‑20={(Y0‑Y20)/Y0}/(20‑0)μm (5),和ΔY20‑50={(Y50‑Y20)/Y20}/(50‑20)μm (6)。
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