[发明专利]测距、对焦处理方法及装置在审
| 申请号： | 201510564692.7 | 申请日： | 2015-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN106502031A | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 曾慧鹏 | 申请（专利权）人： | 中兴通讯股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G03B21/53 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人： | 江舟,李灵洁 |
| 地址： | 518057 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种测距、对焦处理方法及装置，其中，该方法包括获取投影到幕布处的投影光源产生的灰阶值；根据该灰阶值从预先确定的映射表中确定该投影到幕布的距离区间或距离，其中，该映射表为该投影光源的灰阶值与该投影到幕布的距离之间的映射表；根据确定的该投影到幕布的距离区间或距离进行对焦处理，解决了相关技术中需要额外附加专业的测距装置进行对焦导致成本高的问题，在不增加额外测距成本的情况下，提高了对焦速度。 | ||
| 搜索关键词： | 测距 对焦 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种对焦处理方法，其特征在于，包括：获取投影到幕布处的投影光源产生的灰阶值；根据所述灰阶值从预先确定的映射表中确定所述投影到幕布的距离区间或距离，其中，所述映射表为所述投影光源的灰阶值与所述投影到幕布的距离之间的映射表；根据确定的所述投影到幕布的距离区间或距离进行对焦处理。
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