[发明专利]双晶体多通式飞秒激光放大系统

摘要

本发明公开了一种双晶体多通式飞秒激光放大系统，包括双向泵浦装置；由不同基质的第一、二块晶体增益介质构成的双晶体放大增益介质；由均分别为双色镜的第一、二平面反射镜构成的一个多通式信号放大腔；正向泵浦装置凸透镜和反向泵浦装置凸透镜布置在正向泵浦装置半导体激光泵源和反向泵浦装置半导体激光泵源之间；凸透镜与泵浦装置的距离是各自凸透镜自身的焦距；两块晶体增益介质在不接触破坏的情况下尽可能靠近，且两块晶体的晶体中心分别位于各自泵浦光的中心处；第一、二平面反射镜分别布置在晶体增益介质与泵浦装置凸透镜之间。本发明能够适当拓展增益谱的宽度，降低增益谱对光谱产生的增益窄化作用，从而获得窄脉冲、高能量的输出。

主权项

一种双晶体多通式飞秒激光放大系统，其特征在于，包括：由正向泵浦装置半导体激光泵源(1)、正向泵浦装置凸透镜(2)、反向泵浦装置半导体激光泵源(8)和反向泵浦装置凸透镜(7)构成的双向泵浦装置；由不同基质的第一块晶体增益介质(4)和第二块晶体增益介质(5)构成的双晶体放大增益介质；由均分别为双色镜的第一平面反射镜(3)和第二平面反射镜(6)构成的一个多通式信号放大腔；其中：所述正向泵浦装置半导体激光泵源(1)和反向泵浦装置半导体激光泵源(8)分别布置在整体结构的两端；所述正向泵浦装置凸透镜(2)和反向泵浦装置凸透镜(7)布置在所述正向泵浦装置半导体激光泵源(1)和反向泵浦装置半导体激光泵源(8)之间；所述正向泵浦装置凸透镜(2)与正向泵浦装置半导体激光泵源(1)的之间距离及所述反向泵浦装置凸透镜(7)与反向泵浦装置半导体激光泵源(8)之间的距离均分别是各自凸透镜自身的焦距；所述第一块晶体增益介质(4)和第二块晶体增益介质(5)在不接触破坏的情况下尽可能靠近，且所述第一块晶体增益介质(4)和第二块晶体增益介质(5)的晶体中心分别位于各自泵浦光的中心处；所述第一平面反射镜(3)布置在所述第一块晶体增益介质(4)与正向泵浦装置凸透镜(2)之间，所述第二平面反射镜(6)布置在所述第二块晶体增益介质(5)与反向泵浦装置凸透镜(7)之间；所述第一平面反射镜(3)与所述第二平面反射镜(6)之间的间距根据需要的反射次数与入射角度进行调整。