[发明专利]一种内孔抛光装置和方法有效
| 申请号： | 201510501986.5 | 申请日： | 2015-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN106466795B | 公开（公告）日： | 2019-06-21 |
| 发明（设计）人： | 韩福柱;陈伟;杨峰 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 王一斌;王琦 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种内孔抛光装置和方法，其中装置包括一永磁抛光柱体；所述永磁抛光柱体由若干永磁抛光薄片堆叠固定制成；所述永磁抛光柱体可伸入内孔中，并与内孔抛光面之间具有用于容纳磁流变抛光液的间隙，所述磁流变抛光液含有打磨颗粒和顺磁性颗粒。采用本发明可以对内孔表面进行快速打磨、有效降低内孔表面的粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种内孔抛光装置，其特征在于，包括一永磁抛光柱体；其中，所述永磁抛光柱体由若干永磁抛光薄片堆叠固定制成；所述永磁抛光柱体可伸入内孔中，并与内孔抛光面之间具有用于容纳磁流变抛光液的间隙，所述磁流变抛光液含有打磨颗粒和顺磁性颗粒；所述永磁抛光薄片的外缘具有齿，所述永磁抛光柱体表面的纹路呈螺旋状延伸且与所述内孔抛光面的螺旋线槽适配。
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