[发明专利]电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备在审

专利信息
申请号: 201510401681.7 申请日: 2015-07-09
公开(公告)号: CN105319875A 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 村上健;杉山和道;川口大辅;田中大介 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G5/04 分类号: G03G5/04;G03G5/14;G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种电子照相感光构件,电子照相感光构件的制造方法,处理盒,和电子照相设备。一种电子照相感光构件包括支承体和在所述支承体上的底涂层。所述底涂层包含金属氧化物颗粒。所述金属氧化物颗粒表面上包含由式(A-1)至(A-10)的任何一种表示的化合物和由式(B-1)和(B-2)的任何一种表示的化合物。
搜索关键词: 电子 照相 感光 构件 及其 制造 方法 处理 设备
【主权项】:
一种电子照相感光构件,其包括支承体和在所述支承体上的底涂层,其特征在于,其中所述底涂层包括金属氧化物颗粒,所述金属氧化物颗粒的表面包含:由以下式(A‑1)至(A‑10)的任何一种表示的化合物;和由以下式(B‑1)和(B‑2)的任何一种表示的化合物,其中,在所述式(A‑1)至(A‑10)中,X11、X21、X31、X41、X51、X61、X71、X81、X91和X101各自独立地表示氨基、羟基、羧基、由‑COONa表示的基团、由‑COOK表示的基团、磺基或硫醇基,R11至R17、R21至R27、R31至R37、R41至R45、R51至R53、R61至R69、R71至R77和R81至R85、R91至R97和R101至R109各自独立地表示氢原子、氰基、硝基、卤素原子、烷氧基羰基、羟基、硫醇基、氨基、羧基、甲氧基、乙氧基、由‑SO3Na表示的基团、由‑SO3K表示的基团、未取代或取代的烷基、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氧原子得到的基团、由在未取代或取代的烷基的主链中的碳原子之一取代为氮原子得到的基团、未取代或取代的芳基、或未取代或取代的杂环基,所述取代的烷基的取代基是烷基、芳基、卤素原子、或羰基;所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基是卤素原子、硝基、氰基、烷基、卤代烷基、烷氧基、或羰基,其中,在所述式(B‑1)和(B‑2)中,R1、R2、R3、R5和R6各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基,并且R4、R7和R8各自独立地表示甲基、乙基、或苯基。
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