[发明专利]电化学发光电极阵列的制备和修饰方法在审

专利信息
申请号: 201510360195.5 申请日: 2015-06-26
公开(公告)号: CN104897758A 公开(公告)日: 2015-09-09
发明(设计)人: 王利兵;彭梓;吴志鹏 申请(专利权)人: 王利兵;吴志鹏
主分类号: G01N27/327 分类号: G01N27/327
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410004 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明所要解决的技术问题是提供一种简易高效的电化学发光电极阵列的制备以及电极表面修饰方法,它采用带圆弧顶角的方形电极结构使电极表面积最大化并减少尖角效应,用同步法以配体或接枝分子修饰电极阵列中的每一个电极表面,用印痕法在电极表面加载捕获探针分子,使电极阵列具有更好的一致性,本发明具有设备制作使用简单、耗材成本低、操作方便、检测结果重复性好等优点。
搜索关键词: 电化学 发光 电极 阵列 制备 修饰 方法
【主权项】:
本发明涉及在生物检测技术领域中使用的一种电化学发光微阵列芯片的电极制备以及修饰方法,其特征在于:电极阵列中的每个电极均为大小、形状相同的带圆弧顶角的正方形或长方形,单个电极的表面积为0.25~25 mm2,相邻电极之间的间距为0.2~2 mm。
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