[发明专利]包括自组装嵌段共聚物的膜和通过喷涂涂覆制造该膜的方法(IIC)

摘要

公开了自组装嵌段共聚物形成的膜，例如，具有式(I)的二嵌段共聚物：其中R¹‑R⁴，n和m如本文所述，其可以用于制备纳米多孔膜。膜的实施方式含有自组装为圆柱形态的嵌段共聚物。同样公开了一种制备这种膜的方法，其包括喷涂涂覆含有二嵌段共聚物的聚合物溶液以获得薄膜，随后在溶剂蒸气中退火该薄膜和/或在溶剂或溶剂混合物中浸泡以形成纳米多孔膜。

主权项

1.一种制备包括式(I)或(II)的嵌段共聚物的多孔膜的方法：其中：R1是C1-C22烷基基团，其可选地被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基，酰氨基和硝基的取代基取代，或C3-C11环烷基基团，其可选地被选自烷基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基，酰氨基和硝基的取代基取代；R2是C6-C20的芳基基团或者杂芳基基团，其可选地被选自羟基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基和硝基的取代基取代；R3和R4之一是C6-C14芳基基团，其可选地被选自羟基、卤素、氨基和硝基的取代基取代，和R3和R4的另一个是C1-C22烷氧基基团，其可选地被选自羧基、氨基、巯基、炔基、烯基、卤素、叠氮基和杂环基的取代基取代；和n和m是相对独立的10至2000；所述方法包括：(i)在溶剂体系里溶解所述嵌段共聚物以获得聚合物溶液；(ii)喷涂涂覆聚合物溶液到基材上；(iii)在包括溶剂或者溶剂混合物的蒸气里退火(ii)中获得的涂层以获得自组装结构；和可选地(iv)在溶剂或者溶剂混合物中退火或者浸泡(iii)中获得的自组装结构以获得多孔膜。