[发明专利]一种用于湿法刻蚀的清洁系统在审
| 申请号： | 201510325938.5 | 申请日： | 2015-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN105080877A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 刘小宁;郑载润;王世凯;金童燮;耿军;李登涛;梁渲祺;黄腾飞 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B5/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 郝瑞刚 |
| 地址： | 230011 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种用于湿法刻蚀的清洁系统。该清洁系统包括清洁单元以及依次连通的刻蚀区间、缓冲区间及清洗区间；在所述清洗区间的入口设有气刀单元，所述清洁单元与所述气刀单元对应设置，用于清洗所述气刀单元。该清洁系统通过清洁单元有效地去除附着在气刀刀口及周边的刻蚀液结晶和灰尘颗粒；该清洁系统能够代替人工对气刀的清洁，提高设备的稼动率，且在确保清洁效果的同时，最大限度的减少人力浪费，同时能避免因长时间打开设备腔室而造成设备内颗粒增加，影响产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 湿法 刻蚀 清洁 系统 | ||
【主权项】：
一种用于湿法刻蚀的清洁系统，其特征在于，包括：清洁单元以及依次连通的刻蚀区间、缓冲区间及清洗区间；在所述清洗区间的入口设有气刀单元，所述清洁单元与所述气刀单元对应设置，用于清洗所述气刀单元。
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