[发明专利]对X光源的调节变量进行姿势控制的调节的设备和方法有效
| 申请号： | 201510315595.4 | 申请日： | 2015-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN105266831B | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | M.富尔曼;A.耶格;R.卡格迈耶 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G01N23/083 |
| 代理公司： | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 侯宇<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于对X光源(RQ)的至少一个调节变量进行姿势控制的调节的设备，其中设备具有如下特征：至少一个用于解剖识别适合于姿势控制的身体部分(H)的识别单元(E)，至少一个用于采集由识别单元识别到的身体部分的至少一个姿势的姿势采集单元(E)，至少一个用于显示至少一个调节变量作为对于执行姿势的人员(A)的反馈的光源(LQ)，其中至少一个调节变量被预先调节和/或通过至少一个所采集的姿势被调节。 | ||
| 搜索关键词： | 姿势 姿势控制 采集 采集单元 单元识别 光源 解剖 反馈 | ||
【主权项】：
1.一种用于对X光源(RQ)的至少一个调节变量进行姿势控制的调节的设备，包括：/n-至少一个用于解剖识别适合于姿势控制的身体部分(H)的识别单元(E)，/n-至少一个用于采集由所述识别单元识别到的身体部分的至少一个姿势的姿势采集单元(E)，/n-至少一个光源(LQ)，所述至少一个光源用于显示至少一个调节变量并且所述至少一个光源用于投射和/或消除用于调节辐射测量场的参数或所述辐射测量场的参数和/或用于激活和/或解除激活光源作为对于一个或多个所采集的姿势的反应，/n-其中所述至少一个调节变量被预先调节和/或通过至少一个所采集的姿势被调节。/n
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