[发明专利]一种光透过率检测装置和方法有效
| 申请号： | 201510310261.8 | 申请日： | 2015-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN104849240B | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 邸云萍 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/59 | 分类号： | G01N21/59 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供一种光透过率检测装置和方法，涉及生产测试制造技术领域，能够直接检测阵列基板的光透过率，解决了现有工艺中只有完成对盒之后才能检测阵列基板的光透过率的问题，保证了生产的正常进行，降低了成产成本。该装置包括：封闭箱体包括可开合的门体，封闭箱体不透光；光源设置在封闭箱体内部；光电池设置在封闭箱体内部，且与光源相对设置；基板放置部件设置在光电池与光源之间；处理器与光电池连接，用于根据光电池输出的第一光强度信息和第二光强度信息获取待检测基板的光透过率；第一光强度信息是光源发出的光未经待检测基板的强度，第二光强度信息是光源发出的光经过待检测基板后的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透过 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光透过率检测装置，其特征在于，所述装置包括：光源、封闭箱体、光电池、基板放置部件和处理器，其中：所述封闭箱体包括可开合的门体，且所述封闭箱体不透光；所述光源设置在所述封闭箱体内部；所述光电池设置在所述封闭箱体内部，且与所述光源相对设置；所述基板放置部件设置在所述光电池与所述光源之间；所述处理器与所述光电池连接，用于根据所述光电池输出的第一光强度信息和第二光强度信息获取待检测基板的光透过率；其中，所述第一光强度信息用于表明所述光源发出的光未经待检测基板的强度，所述第二光强度信息用于表明所述光源发出的光经过待检测基板后的强度；所述基板放置部件包括：卡槽，其中：所述卡槽设置在所述封闭箱体上；所述卡槽用于将所述待检测基板固定在所述封闭箱体中。
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