[发明专利]一种磁控溅射靶材磁铁放置角度的确定方法有效
| 申请号： | 201510304340.8 | 申请日： | 2015-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN104878356B | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 汪洋;范宾;渡边优;张洪 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空镀膜领域，尤其是一种磁控溅射靶材磁铁放置角度的确定方法，其特征在于所述确定方法至少包括以下步骤基于knudsen定律，利用解析法计算在不同磁铁放置角度下，所述基板旋转时所形成的膜厚分布，从中选择最优膜厚分布所对应的磁铁放置角度作为磁铁放置角度的最优初始值。本发明的优点是能精确确定磁铁放置的最佳角度，从而使镀膜厚度的均一性得到保证；计算量小，EXCEL就可以算；较直接，比较容易分析各个变量对于结果的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 磁铁 放置 角度 确定 方法 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶材磁铁放置角度的确定方法，所述磁铁安装在磁控溅射镀膜机的真空腔之中，所述真空腔侧壁安装靶材，所述靶材为旋转圆柱靶，所述真空腔之中安装有基板伞架，所述基板伞架上承载有基板，所述基板为大面积平面基板，所述平面基板随着所述基板伞架在所述真空腔内自转，其特征在于：所述确定方法至少包括以下步骤：基于knudsen定律，利用解析法计算在不同磁铁放置角度下，所述基板旋转时所形成的膜厚分布，从中选择最优膜厚分布所对应的磁铁放置角度作为磁铁放置角度的最优初始值；在磁铁放置角度为初始值的前提下进行实际镀膜并根据实际镀膜的膜厚分布情况对磁铁放置角度进行后续调整，得到磁铁放置角度的最优值。
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