[发明专利]一种蓝宝石镜面基片内凹平台面的研磨抛光方法有效
| 申请号： | 201510270552.9 | 申请日： | 2015-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN106272010B | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 周群飞;饶桥兵;余兴明 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24D7/18 |
| 代理公司： | 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 | 代理人： | 郑隽;欧颖 |
| 地址： | 410329 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种蓝宝石镜面基片内凹平台面的研磨抛光方法，采用研磨面表面设置有对称凹槽或对称空洞的铜磨头，运用平行往返运动、垂直往返运动和正反Z字形运动抛光路径对镜片进行抛光；铜磨头的加工压力保持在0.15～0.35MPA；铜磨头研磨面的规格尺寸为待加工蓝宝石镜面基片内凹平台面规格尺寸的0.45‑0.5倍；凹槽和空洞的深度为0.5‑6mm。本发明将铜磨头研磨面表面的特殊凹槽或空洞、特殊的运动抛光路径和铜磨头研磨面的面积大小以及至少两道使用不同研磨头的抛光工序组合起来，设计出适用于内凹平台面的研磨抛光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 镜面基片内凹 平台 研磨 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蓝宝石镜面基片内凹平台面的研磨抛光方法，其特征在于，抛光采用研磨面表面设置有对称凹槽和/或对称空洞的铜磨头，运用平行往返运动、垂直往返运动和正反Z字形运动抛光路径对镜片进行抛光；铜磨头的加工压力保持在0.15～0.35MPA，磨头运动频率为40‑50HZ；所述凹槽和空洞的深度为0.5‑6mm，所述凹槽的宽度为1‑3mm；每道抛光工序时间的前1/2采用平行往返运动或者垂直往返运动抛光路径，每道抛光工序时间剩下的1/2采用正反Z字形运动抛光路径。
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