[发明专利]一种提高平面面形子孔径拼接检测精度的方法有效

专利信息
申请号: 201510173537.2 申请日: 2015-04-14
公开(公告)号: CN104776812B 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 李永;唐锋;王向朝;李杰;吴飞斌 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 上海新天专利代理有限公司31213 代理人: 张泽纯,张宁展
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种提高平面面形子孔径拼接检测精度的方法,首先对待测平面光学元件进行子孔径拼接干涉测量,得到子孔径面形数据,直接拼接得到全口径面形;其次过参考镜中心对全口径面形横向采样,计算得到拼接累积误差,然后根据本发明提出的方法计算参考镜离焦;最后在子孔径测量结果中去除计算得到的离焦面形,再拼接得到去离焦后的全口径面形。本发明能够准确标定参考镜离焦,消除累积误差,提高拼接精度,并且不需要增加额外的辅助部件或标定流程,具有易实现、精度高、不增加系统成本的优点。
搜索关键词: 一种 提高 平面 面形子 孔径 拼接 检测 精度 方法
【主权项】:
一种提高平面面形子孔径拼接检测精度的方法,利用面形子孔径拼接检测精度装置,该装置包括:斐索干涉仪(1),参考镜(2),待测平面光学元件(3)和拼接位移台(4);所述的参考镜(2)装夹在水平放置的斐索干涉仪(1)的参考镜调整架上,待测平面光学元件(3)水平装夹在所述的拼接位移台(4)上,使斐索干涉仪(1)发出的光穿过参考镜(2),经待测平面光学元件(3)反射后,沿原路返回;其特征在于,该方法包含如下的步骤:①调整参考镜(2),使其与斐索干涉仪(1)的光轴对准;②控制拼接位移台(4)运动至待测光学元件(3)的预设子孔径位置Wi,其中,i=1,2,3,…,i为子孔径的个数,利用斐索干涉仪(1),对待测光学元件(3)各子孔径位置的面形依次进行测量,得到各子孔径面形数据Mi;③利用斐索干涉仪(1)得到参考镜(2)在子孔径面形数据Mi的中心坐标(x0,y0);④计算拼接累积误差△:将各子孔径面形数据Mi依次按照最小二乘法两两拼接得到全口径面形M,过y=y0对全口径面形M进行横向采样,得到全口径面形M的一维横向采样线,该一维横向采样线的峰谷值即为拼接累积误差△;⑤计算参考镜面形误差的离焦系数a4,公式如下:a4=Δ-a2-a1w(2nL+nw+(2+(n-2)(n+1))ΔL-2nL2)]]>其中,a2和a1为选定的重叠区过(x0,y0)的横向采样线的两端端点值,ΔL为拼接距离,等于相邻子孔径间距,L为每个子孔径的长度,L1和L2为参与运算的重叠区的边界位置坐标,w=L2‑L1为重叠区宽度,n为拼接次数;⑥在每一个子孔径面形数据Mi中,减去系数为a4的离焦面形:a4(2(x2+y2)‑1),其中,x,y为子孔径面形数据的坐标,得到去除离焦后的子孔径面形数据Mi’;⑦将子孔径面形数据Mi’依次按照最小二乘法两两拼接得到全口径面形M’,去倾斜和平移得到全口径面形M”。
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