[发明专利]图像处理方法和成像设备在审

专利信息
申请号: 201510125617.0 申请日: 2015-03-20
公开(公告)号: CN104954643A 公开(公告)日: 2015-09-30
发明(设计)人: 小林光吉;上野梨纱子;铃木和拓;权镐楠;舟木英之 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/232
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 宋静娴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本申请公开了图像处理方法和成像设备。根据一实施例,在成像设备中实现一种图像处理方法,该成像设备包括:微透镜阵列,该微透镜阵列包括微透镜;主透镜,其被配置成将来自摄影对象的光引导至微透镜阵列;以及图像传感器,其被配置成在光通过主透镜和微透镜阵列后接收该光。该方法包括:获得由图像传感器捕捉的图像;根据图像高度来设置包括在所述图像中并由微透镜形成的微透镜图像中的感兴趣的微透镜图像和比较目标微透镜图像的排布;通过将感兴趣微透镜图像与比较目标微透镜图像作比较而检测感兴趣微透镜图像与每个比较目标微透镜图像之间的图像偏移量;并使用该图像偏移量来计算与感兴趣微透镜图像对应的距离。
搜索关键词: 图像 处理 方法 成像 设备
【主权项】:
一种实现在成像设备中的图像处理方法,所述成像设备包括:微透镜阵列,所述微透镜阵列包括多个微透镜;主透镜,其被配置成将来自摄影对象的光引导至所述微透镜阵列;以及图像传感器,其被配置成在光通过所述主透镜和所述微透镜阵列后接收所述光,所述方法包括:获得由所述图像传感器捕捉的图像;根据图像高度来设置包括在所述图像中并由所述微透镜形成的微透镜图像中的感兴趣微透镜图像和多个比较目标微透镜图像的排布;通过将所述感兴趣微透镜图像与所述比较目标微透镜图像比较来检测所述感兴趣微透镜图像与每个所述比较目标微透镜图像之间的图像偏移量;以及使用所述图像偏移量来计算与所述感兴趣微透镜图像对应的距离。
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