[发明专利]气体处理装置

摘要

本发明公开了一种气体处理装置。一个实施例的一种气体处理装置包括：与彼此相面对的第一和第二电介质基板；分别布置在电介质基板的一对相面对的主表面上的第一和第二放电电极；分别布置在电介质基板的所述主表面的相反侧的一对主表面上的第一和第二地电极；气体流路，用于在放电电极之间供应要处理的气体；AC电源，用于通过在放电电极与地电极之间施加AC电压来生成第一和第二等离子诱发流；以及从放电电极起在等离子诱发流的下游在电介质基板之间布置的区域，并且电介质基板之间的间隙是等离子诱发流的厚度之和的1.3倍以下。

主权项

一种气体处理装置，包括：与彼此相面对的第一电介质基板和第二电介质基板；分别布置在所述电介质基板的一对相面对的主表面上的第一放电电极和第二放电电极；分别布置在所述电介质基板的所述主表面的相反侧的一对主表面上的第一地电极和第二地电极；气体流路，被配置为在所述放电电极之间供应要处理的气体；AC电源，被配置为通过在所述放电电极和所述地电极之间施加AC电压以离子化所述气体来在第一放电电极侧生成第一等离子诱发流并且在第二放电电极侧生成第二等离子诱发流；以及从所述放电电极起在所述等离子诱发流的下游在所述电介质基板之间布置的区域，并且所述电介质基板之间的间隙是所述等离子诱发流的厚度之和的1.3倍以下。