[发明专利]一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺及其玻片

摘要

一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其包括以下步骤第一步，玻片预处理将玻片置于烘箱中烘烤，烘烤之后冷却，然后置于碱性溶液中浸泡，除去表面油污；第二步，喷涂疏水抗菌涂层在玻片的加样孔的周围喷涂疏水抗菌层；第三步，喷涂抗菌亲水层在玻片的加样孔处喷涂抗菌亲水层。本发明的一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，采用这种工艺制备的玻片，抗体使用量小，且不易溢出，从而保证了实验的准确性。

主权项

一种用于免疫荧光反应的玻片制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：第一步，玻片预处理：将玻片置于烘箱中烘烤，烘烤之后冷却，然后置于碱性溶液中浸泡，除去表面油污；第二步，喷涂疏水抗菌涂层：在玻片的加样孔的周围喷涂疏水抗菌层；第三步，喷涂抗菌亲水层：在玻片的加样孔处喷涂抗菌亲水层；所述疏水抗菌层的制备工艺如下：将1mlγ‑环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、5ml无水乙醇溶于10ml水中，调节pH至5.0并在磁力搅拌器下搅拌20min，再加入质量分数为30％、pH值为5.0、粒径为7‑9nm的酸性SiO2溶胶20ml制备得到改性的硅溶胶；将3g的152nm粒径的TiO2粉末加入硅溶胶中调均，并加入0.1g分散剂使TiO2在溶剂中充分分散；将20ml PTFE乳液缓慢地加在上述溶胶体系中并加入2mlDMF、10g聚氨酯树脂，充分混合；最后用酸调节混合乳胶至pH＝5，反应3h后在30℃的恒温陈化24h待涂膜；将预处理玻片置于200℃烘箱中烘烤1h，烘烤后冷却后用1mol/L的NaOH溶液浸泡玻片30min充分去除油污；用喷枪将喷涂厚度0.5‑1mm的玻片在室温放置20‑30min后置于100℃烘箱烘烤1h，使涂层固化；为了保证反应孔出不被喷涂上涂层，用直径相当的圆柱形石墨柱置于玻片上加样孔处进行喷涂处理，并随同玻片一起烘烤至涂层固化完成；所述抗菌亲水层的制备工艺如下：取质量分数为30％的SiO2溶液50ml，升温至40℃后边搅拌边以1.0ml/min的速度滴加5ml的丙烯酸羟丙酯；滴加完成后在37℃保温搅拌1h；将5g粒径为152nm的TiO2粉末加入硅溶胶中调均，并加入0.2g分散剂使TiO2在溶剂中充分分散并溶解；之后转入旋转蒸发器中，在37℃下减压反应并除去水分，反应3h后得到杂化溶胶；向杂化溶胶中加入0.3g己二醇二丙烯酸酯和0.04g1,1‑二甲基‑1‑羟基苯乙酮，再加入正丙醇稀释，搅拌均匀后得到紫外光固化溶液；取适量涂料液加入反应孔中并自然流平，随后放入紫外光固化箱中固化形成抗菌亲水涂层。