[发明专利]纳米粒子制造系统

摘要

本发明公开一种纳米粒子制造系统；此纳米粒子制造系统使用光导管将激光源所提供的激光直接引导至位于消熔腔体内的靶材的表面，藉此方式避免激光可能受到消熔腔体内冷却液体的影响而产生例如反射与折射等光学效应。此外，于本发明所提供的纳米粒子制造系统之中，是将光导管的一光导出端与该靶材之间的距离控制在一特定距离(<5mm)；如此设计，即使激光源所提供的激光为一低功率(<30mJ/pulse)的激光，该激光亦能够藉由激光消熔将所述靶材制成多个纳米粒子。

主权项

一种纳米粒子制造系统，其特征在于，包括：一消熔腔体，其顶部设有一透明窗；一基板，设于该消熔腔体之中，用以置放一靶材；一冷却液体输入装置，通过一冷却液体输送管而连接于该消熔腔体，用以输入一冷却液体于该消熔腔体之中；其中，该冷却液体的一液面高度与该透明窗的一设置高度之间相距一第一距离；并且，该液面高度与该靶材的表面之间相距一第二距离；一激光源，提供一激光；至少一光导管，具有一光导入端与一光导出端；其中，该光导入端连接于该激光源，且该光导出端延伸进入该消熔腔体内部，使得该光导出端与该靶材的表面之间相距一第三距离；其中，当所述的激光经该至少一光导管被导入该消熔腔体的内部并射向该靶材之后，该靶材会被该激光消熔成为多个纳米粒子。