[发明专利]利用软质光刻模板进行曲面薄膜图形化微制造方法有效
申请号: | 201510051991.0 | 申请日: | 2015-01-30 |
公开(公告)号: | CN104698744B | 公开(公告)日: | 2019-05-24 |
发明(设计)人: | 段力;高均超;丁桂甫;汪红;邵靖;刘宜胜;李洪美;王凤森;张永强;杨卓青;赵小林;程萍;张丛春;王艳;戴旭涵 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;B81C1/00 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 徐红银;郭国中 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种利用软质光刻模板进行曲面薄膜图形化微制造方法,属于微加工技术领域。所述技术将腐蚀溶剂涂在软质弹性模的图形表面,然后附着在要刻蚀的薄膜上,与所述弹性模的凸出图形部位接触的所述薄膜表面受到刻蚀,所述薄膜刻蚀结束后去除所述弹性模,得到要刻蚀的图案结构。本发明由于使用了弹性模代替了光刻中使用的硬模,因此相对于传统的光刻技术,软光刻技术更加灵活,它首先能制造复杂的三维结构并且能在曲面上应用,其次能够在不同化学性质表面上使用,并且可以根据需要改变材料表面的化学性质,另外还能够应用于许多材料上,其应用正在许多方面不断体现出来。 | ||
搜索关键词: | 刻蚀 弹性模 光刻 薄膜图形 微制造 软质 薄膜 应用 微加工技术 薄膜表面 腐蚀溶剂 改变材料 光刻技术 软质弹性 三维结构 凸出图形 图案结构 图形表面 传统的 软光刻 附着 硬模 去除 灵活 制造 | ||
【主权项】:
1.一种利用软质弹性模进行曲面薄膜图形化微制造方法,其特征在于,所述方法将腐蚀溶剂涂在软质弹性模的图形表面,然后附着在要刻蚀的曲面薄膜上,与所述软质弹性模的凸出图形部位接触的所述曲面薄膜表面受到刻蚀,所述曲面薄膜刻蚀结束后去除所述软质弹性模,得到要刻蚀的图案结构;所述方法包括以下具体步骤:第一步,将腐蚀溶剂涂在软质弹性模图形表面,在软光刻中,软质弹性模就相当于是一个软的贴板,将软质弹性模弯曲从而适合贴在曲面;第二步,将软质弹性模附着在要刻蚀的曲面薄膜上,停留片刻,和软质弹性模凸出图形的部位接触的曲面薄膜表面将受到刻蚀作用;所述软质弹性模为PDMS弹性模;第三步,薄膜刻蚀结束后去除所述软质弹性模,得到要刻蚀的图案结构,从而达到曲面光刻的目的。
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