[发明专利]用于浮空器的囊体装置有效
申请号: | 201510035751.1 | 申请日: | 2015-01-23 |
公开(公告)号: | CN104681919B | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 东莞前沿技术研究院;深圳光启空间技术有限公司 |
主分类号: | H01Q1/28 | 分类号: | H01Q1/28;H01Q15/16;H01Q19/13 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 徐伟 |
地址: | 523000 广东省东莞市松山湖*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于浮空器的囊体装置,包括囊体;以及天线单元,该天线单元包括超材料结构,该超材料结构与该囊体形成一体;反射结构,该反射结构与该蒙皮形成一体,其中该超材料结构位于该反射结构的外侧;以及馈源,该馈源设置在浮空器外部并朝该超材料结构定向。 | ||
搜索关键词: | 用于 浮空器 装置 | ||
【主权项】:
一种用于浮空器的囊体装置,包括:囊体,所述囊体包括由外至内依次层叠设置的防护层、气密层、载荷承力层,将这些层相互粘结的黏结层,以及设置于载荷承力层表面的焊接层;以及天线单元,所述天线单元包括:超材料结构,所述超材料结构与所述囊体形成一体,所述超材料结构包括形成在所述囊体内或囊体外表面的至少一层的人造微结构,所述人造微结构设置于防护层、气密层或载荷承力层的外侧表面,所述人造微结构由导电材料构成,且通过蚀刻、电镀、雕刻、蒸镀、溅射、丝印、钻刻、光刻、电子刻或离子刻工艺进行附着;反射结构,所述反射结构与所述囊体形成一体,其中所述超材料结构位于所述反射结构的外侧,所述反射结构包括形成在所述囊体内的金属膜;以及馈源,所述馈源设置在浮空器外部并朝所述超材料结构定向。
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