[发明专利]设计度量目标的方法、具有度量目标的衬底、测量重叠的方法、以及器件制造方法

摘要

由光刻工艺形成度量目标，每个目标包括底部光栅和顶部光栅。可以通过使用辐射照明每个目标并且观测衍射辐射中非对称性而度量光刻工艺的重叠性能。选择度量配方和目标设计的参数以便于最大化重叠测量的精度而不是可重复性。方法包括计算在(i)表示由顶部光栅衍射的辐射的第一辐射分量与(ii)表示在穿过顶部光栅和插入层之后由底部光栅衍射的辐射的第二辐射分量之间的相对幅度和相对相位的至少一个。顶部光栅设计可以修改以使得相对幅度接近均一。度量配方中照明辐射的波长可以调节以使得相对相位接近π/2或3π/2。

主权项

1.一种设计待由光刻工艺形成的度量目标的方法，每个目标包括在衬底上的下层中待形成的第一周期性结构、以及在所述衬底上的上层中在所述第一周期性结构之上待形成的第二周期性结构，从而能够通过使用照明辐射来照射每个目标并且观测在所得的衍射频谱的一些部分中的非对称性，测量所述光刻工艺的重叠性能，所述方法包括：‑限定一个或多个度量配方参数，所述一个或多个度量配方参数表示待用于测量重叠的所述照明辐射的属性；‑限定一个或多个设计参数，所述一个或多个设计参数表示所述目标的设计；‑计算在以下两项之间的相对幅度和相对相位中的至少一个：(i)当由所述第二周期性结构衍射时表示所述照明辐射的第一辐射分量，以及(ii)在穿过第二层至第一层并且返回所述第二层之后当由所述第一周期性结构衍射时表示所述照明辐射的第二辐射分量；‑基于计算所得的相对幅度和/或相对相位，选择针对所述度量配方参数和所述设计参数的值，以便于当由光刻工艺形成根据所选择值的度量目标并且对其测量时最大化重叠的测量的精确度。