[发明专利]靶向质谱分析的方法在审

专利信息
申请号: 201480078713.8 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN106461628A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: A·N·维尔恩驰寇韦 申请(专利权)人: 莱克公司
主分类号: G01N30/72 分类号: G01N30/72;H01J49/00;H01J49/40
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 马景辉
地址: 暂无信息 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供了一种靶向质谱分析方法,用于分析相比于样品基质处于亚ppb水平的痕量化合物。在标准条件下色谱分离样品以利用目标质量(M)相对保留时间(RT)的映射。在M(RT)以下的小质量离子被RF场拒绝(质量过滤),而剩余的离子被累积,从而或者直接从电子轰击电离源,或者从线性RF阱或者经由具有轴向离子捕获的加热式仅RF四极,被脉冲注射进入多反射TOF MS。与电子轰击电离源结合,该方法在基质负载在微克范围时提供亚毫微微克的灵敏度。
搜索关键词: 靶向 谱分析 方法
【主权项】:
一种用于样品的靶向质谱分析的方法,包括:创建色谱分离的标准条件,使得目标化合物的质量M被映射为保留时间RT的函数;注射样品并且对样品进行色谱分离;电离所述样品;通过射频场去除小于M(RT)的低质量离子;经由电子束或射频四极或阱进行离子累积和脉冲喷射;以及在多反射飞行时间质谱仪MR‑TOF MS中进行质量分析。
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