[发明专利]用于检测颗粒的检测装置有效
| 申请号： | 201480076186.7 | 申请日： | 2014-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN106257998B | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | J.H.M.内伊泽恩;J.J.H.B.施雷彭 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/27 | 分类号： | G01N21/27;G01N21/55;G02B21/18;G01N35/00 |
| 代理公司： | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 江鹏飞;景军平 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在第一光学检测模式中和第二光学检测模式中检测颗粒检测表面（5）上或靠近颗粒检测表面（5）的颗粒的检测装置（1），其中检测装置的光检测系统（8）的组件和/或光学系统（9）的组件布置成使用在第一检测模式中和第二检测模式中。由于光检测系统的组件和/或光学系统的组件布置成使用在第一检测模式中和第二检测模式中，因此该组件不需要被提供两次，即用于使用在第一检测模式中和用于使用在第二检测模式中。这可以引起减少数目的组件并且可以使检测装置在技术上较不复杂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检测 颗粒 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于检测颗粒检测表面上或靠近颗粒检测表面的颗粒的检测装置，检测装置（1）适配成可操作在第一光学检测模式中和第二光学检测模式中，其中检测装置（1）包括：/n– 用于生成第一光以用于在第一光学检测模式中光照颗粒检测表面（5）的第一光源（6），/n– 用于生成第二光以用于在第二光学检测模式中光照颗粒检测表面（5）的第二光源（7），/n– 用于在已经遇到颗粒检测表面（5）之后检测第一光和第二光的光检测系统（8），/n– 用于在遇到颗粒检测表面（5）之前和/或在已经遇到颗粒检测表面（5）之后修改第一光和第二光的光学系统（9），/n其中光检测系统（8）的组件和/或光学系统（9）的组件布置成使用在第一检测模式中和第二检测模式中，并且/n其中光检测系统（8）和光学系统（9）适配成使得第一光被由颗粒（2）导致的衰减全内反射所修改并且检测经修改的第一光；/n其中所述检测装置还包括输入单元，其被配置成在第一光学检测模式和第二光学检测模式之间切换。/n
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