[发明专利]粒子射线照射装置在审
申请号: | 201480072776.2 | 申请日: | 2014-01-10 |
公开(公告)号: | CN105916554A | 公开(公告)日: | 2016-08-31 |
发明(设计)人: | 坂本裕介;蒲越虎;原田久;本田泰三 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 俞丹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种粒子射线照射装置,其对扫描装置实施如下控制,即将对照射对象的所有照射位置照射粒子射线的照射重复重新扫描次数,对各照射位置照射重新扫描次数的粒子射线,该粒子射线照射装置具备运算部,该运算部被输入重新扫描次数(n)和粒子射线的单位时间的剂量即射束强度(J)中的一方,求出对于所有照射位置满足下述条件(P1)的另一方的值中的最大值,并提示给用户。J*ti<=di/n (条件P1)。 | ||
搜索关键词: | 粒子 射线 照射 装置 | ||
【主权项】:
一种粒子射线照射装置,具备:扫描装置,使粒子射线向与前进方向垂直的2个方向即XY二维地发生偏转,并使所述粒子射线照射至照射对象的照射位置发生移动;存储部,存储所述照射位置的位置信息、应照射至每个所述照射位置的剂量以及所述扫描装置的速度信息;控制部,用来控制所述扫描装置;以及剂量监控器,用来测量所述粒子射线的剂量,所述控制部如下控制所述扫描装置,即在通过所述剂量监控器测量出的剂量达到基于存储在所述存储部中的应照射至该照射位置的剂量而计算出的剂量后,在不停止所述粒子射线的照射的状态下使所述粒子射线向下一照射位置移动,并重复实施这一操作,从而将对所述照射对象的所述XY二维的所有照射位置照射所述粒子射线的照射重复重新扫描次数,对所述照射对象的各照射位置照射所述重新扫描次数的所述粒子射线,所述粒子射线照射装置的特征在于,具备运算部,该运算部被输入所述重新扫描次数n和所述粒子射线的单位时间的剂量即射束强度J中的一方,求出对于所有照射位置满足下述条件P1的另一方的值中的最大值,并提示给用户。J*ti<=di/n (条件P1)其中,i是所述照射位置的编号,ti是根据存储在所述存储部中的所述速度信息和所述位置信息计算出的所述粒子射线从i‑1号照射位置移动至i号照射位置的时间,di是存储在所述存储部中的应照射至i号照射位置的剂量。
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