[发明专利]发射器和滴灌用输送管在审

专利信息
申请号: 201480071122.8 申请日: 2014-11-27
公开(公告)号: CN105848469A 公开(公告)日: 2016-08-10
发明(设计)人: 木立昌宏 申请(专利权)人: 恩普乐股份有限公司
主分类号: A01G25/02 分类号: A01G25/02
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的发射器(120)包含从用于引入输送管内的灌溉用液体的取水通道(221)到凹部(252)的流路。该流路包含被以不与薄膜(300)接触的方式配置的盖(244)塞住的孔(243)。在孔(243)的周缘部形成有槽。当薄膜(300)被输送管内的灌溉用液体的压力按压而使盖(244)塞住孔(243)时,将发射器(120)内的灌溉用液体的流量控制为能够在上述的槽中通过的量。直到盖(244)的上游侧和下游侧的上述流路的压差变为充分小为止,持续进行该流量控制。
搜索关键词: 发射器 滴灌 输送
【主权项】:
一种发射器,其配置于用于使灌溉用液体流动的输送管,用于向所述输送管外定量地排出所述输送管内的所述灌溉用液体,该发射器包括:取水部,其用于引入所述输送管内的所述灌溉用液体;减压流路,其用于使从所述取水部引入的所述灌溉用液体一边减压一边流动;流量控制部,其用于根据所述输送管内或所述取水部内的所述灌溉用液体的压力,对从所述减压流路供给的所述灌溉用液体的流量进行控制;以及排出部,其被供给由所述流量控制部控制流量并应向所述输送管外排出的所述灌溉用液体,所述流量控制部包括:阀体,其用于开闭所述灌溉用液体的流路;阀座,其在所述阀体关闭所述流路时供所述阀体落座;薄膜,其承受所述输送管内或所述取水部内的所述灌溉用液体的压力而弯曲,用于向所述阀座按压所述阀体从而使所述阀体落座于所述阀座;以及槽,其形成于所述阀座的表面,在所述阀体落座于所述阀座时,连通所述灌溉用液体的所述阀座上游侧的所述流路和下游侧的所述流路,所述薄膜在所述输送管内的所述灌溉用液体的压力为设定值以上时,按压所述阀体,从而使所述阀体落座于所述阀座。
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