[发明专利]辐射源、量测设备、光刻系统和器件制造方法有效
申请号: | 201480067916.7 | 申请日: | 2014-11-14 |
公开(公告)号: | CN105814662B | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | M·P·C·范赫尤门 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H01J65/04 | 分类号: | H01J65/04;G01N21/956;G03F7/20;H01J61/35;H01J61/54 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种辐射源设备,包括:用于利用气体介质加压的容器(400),其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射(50)激发所述气体介质之后被生成,其中容器基本上可操作(66,67)以在等离子体发射辐射作为输出辐射离开容器之前从等离子体发射辐射中去除具有10‑400nm的波长的辐射。在实施例中,容器包括:可操作地将驱动辐射从容器的外部透射至容器的内部的入口辐射透射元件(64);以及可操作地将等离子体发射辐射的至少一些从容器的内部透射至容器的外部作为输出辐射的出口辐射透射元件(65);其中的入口辐射透射元件和出口辐射透射元件中的至少一个包括平面平行平板。 | ||
搜索关键词: | 辐射源 设备 光刻 系统 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种辐射源设备,包括:用于利用气体介质加压的容器,其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射激发所述气体介质之后被生成,所述容器包括:入口辐射透射元件,其可操作以将所述驱动辐射从所述容器的外部透射至所述容器的内部,出口辐射透射元件,其可操作以将所述等离子体发射辐射的至少一些从所述容器的内部透射至所述容器的外部作为输出辐射,以及侧壁,所述侧壁比所述入口辐射透射元件和所述出口辐射透射元件更能承受所述输出辐射;其中所述等离子体的中心距离所述出口辐射透射元件和/或所述入口辐射透射元件远于距离所述容器的最近的侧壁。
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