[发明专利]光纤阵列线路发生器有效
| 申请号： | 201480067786.7 | 申请日： | 2014-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN105814758B | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 道格拉斯·E·霍姆格伦;塞缪尔·C·豪厄尔斯;阿伦·缪尔·亨特;西奥多·P·莫菲特;迪瓦卡尔·N·科德拉雅 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01S3/0941 | 分类号： | H01S3/0941;H01L21/00;H01S3/10 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在此所描述的具体实施方式涉及基板的快速热处理。光纤耦合激光二极管阵列设置于光学系统中，所述光学系统经配置以在基板表面上产生均匀辐照图案。多个单独可控的激光二极管经由多个光纤而与一个或多个透镜光学耦接。所述光纤耦合激光二极管阵列产生高斯辐射分布，所述高斯辐射分布经透镜散焦而产生均匀强度图像。在一个具体实施方式中，场光阑设置于所述光学系统内。 | ||
| 搜索关键词： | 光纤 阵列 线路 发生器 | ||
【主权项】：
一种用于处理基板的设备，包括：多个光纤耦合激光二极管，其中，每个光纤耦合激光二极管包含：一个或多个激光二极管，和与所述激光二极管光学耦接的光纤；第一透镜，所述第一透镜靠近所述光纤耦合激光二极管的远端设置；及第二透镜，所述第二透镜靠近所述第一透镜设置，其中，所述第一透镜与第二透镜形成变形光学成像系统。
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