[发明专利]用于去除表面上的残余物的清洗调配物有效
| 申请号： | 201480067111.2 | 申请日： | 2014-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN105814183B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | E·A·克内尔 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 方志炜 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及清洗组合物，其含有：1)HF；2)经取代或未经取代的硼酸；3)硫酸铵；4)至少一种金属腐蚀抑制剂；5)水；和6)任选地，至少一种pH调节剂，该pH调节剂是不含金属离子的碱。本发明也涉及使用上述组合物清洗半导体基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 表面上 残余物 清洗 调配 | ||
【主权项】：
1.清洗组合物，其含有：1)按所述组合物的重量计0.01wt％至1wt％的HF；2)按所述组合物的重量计0.01wt％至0.6wt％的经取代或未经取代的硼酸；3)按所述组合物的重量计0.05wt％至5wt％的硫酸铵；4)按所述组合物的重量计0.1wt％至0.6wt％的至少一种金属腐蚀抑制剂；5)水；和6)任选地，至少一种pH调节剂，该pH调节剂是不含金属离子的碱；其中，所述清洗组合物的pH为5至6且所述清洗组合物还不含氧化剂。
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